Spin Dryer für Wafer und andere Substrate
Zur
effektiven Trocknung von Wafern und anderen Substraten
nach Nassprozessen
mit Hilfe der Zentrifugalkraft.
Als manuelles Einzelgerät
oder
als Vollautomat zur Integrierung in Nassbänke
Maximaler
Durchsatz pro Run:
100 Stück 6" - Wafer (4 Kassetten)
oder
50 Stück 8" - Wafer (2 Kassetten)
Maximale
Umdrehung:
1200 U/min.
Material:
elektropolierter
Edelstahl
